ASML 艾司摩爾為半導體設備龍頭供應商，光刻機市場壟斷者

ASML艾司摩爾 (美股代號:ASML) 成立於 1984 年，總部位於荷蘭，為全球第二大半導體設備及服務供應商，僅次於美國應用材料 (Applied Materials )，公司從事半導體設備的設計、製造及銷售，尤其專精於晶片製造中微縮影設備之設計與整合，主要產品為用於生產積體電路的核心設備光刻機，並於高階光刻機市場處於絕對龍頭地位，市占率超過 80%，其中EUV (極紫外光)光刻機更以 100% 份額壟斷市場。

ASML的業務分為兩大部門，光刻設備系統 (System) 佔 22Q2 整體營收76.2%，及安裝管理(Installed Base Management, IBM)，佔 22Q2 整體營收23.8%。主要營收來源的光刻設備系統部門，供應各種光刻設備，包括極紫外光光刻 (EUV)、深紫外光光刻 (DUV)，另外還包含量測與檢驗設備。EUV為光刻設備中較高階機型，因波長較短、能量較高，可用於生產奈米數較小之晶圓，ASML目前在最高階機型EUV的市占率為 100%。

安裝管理部門營收由光刻機相關輔助軟體、舊有設備更新、耗材更換等組成，包括公司對產品的售後服務及軟硬體升級銷售。由於軟體安裝與售後服務成本較低，故毛利率為三者中最高，近年隨著客戶對軟體升級的需求提高、公司軟體技術越趨成熟，ASML 的安裝管理部門毛利率正逐年提升。

ASML 22Q2 營運優於財測及 CMoney 預期

ASML 22Q2 營收創單季新高，達 54.3 億歐元 (季增 53.6%、年增 35.1%)，優於公司財測中位數 52.0 億歐元 4.4%，高於CMoney研究團隊預估的 51.0 億歐元 6.5%。22Q2 訂單同樣創下單季歷史新高，達 84.6 億歐元，其中邏輯運算應用 (如: CPU 及 GPU) 佔 60.0%，記憶體應用 (如: DRAM 動態記憶體及 NAND Flash儲存記憶體) 佔 40.0%。

按部門營收分析：

•    光刻設備系統部門 22Q2 營收 41.4 億歐元 (季增 81.0%、年增 40.4%)，佔總營收76.2%，EUV於部門營收占比為 48.0%，較22Q1增加 22.0%，共認列 12 台，較22Q1及去年同期僅認列 3 台增加 3 倍；DUV則共認列 67 台，較 22Q1 認列 50 台大增 17 台。部門營收成長動能主要來自先進製程客戶對EUV 0.55 NA (EXE:5200) 及 0.35 NA 訂單持續增加，22Q2 訂單新增 54 億歐元。

ASML 22Q2 光刻設備系統部門 EUV 營收佔比大增 22%

資料來源：ASML

•    安裝管理部門 22Q2 營收 12.9 億歐元 (季增 3.4%、年增 20.5%)，佔總營收23.8%。此部門於營收占比的增加，在22Q1度在其他產品營收因遞延而帳面下跌的情況下，唯一年增長帳面仍為正增長，可見其表現穩定。且隨著 22Q2 出貨量增加，帶動部門營收重回季成長軌道，年成長亦重回雙位數增長。

毛利率因通膨導致生產成本上漲而年減 1.8 個百分點至 49.1%，位於財測下緣位置。營業利益達 16.53 億歐元 (季增 110.7%、年增 33.4%)，優於預估的 15.15 億歐元 9.1%。稅後淨利達 14.11 億歐元 (季增 102.9%、年增 35.9%)，大幅優於預期的 12.72 億歐元 10.9%。每股盈餘 (EPS) 較 22Q1 翻倍成長達 3.54 歐元，年增 40.5%。整體而言，ASML 22Q2 營收及獲利表現雙雙優於財測及 CMoney 預期。

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